Различия
Показаны различия между двумя версиями страницы.
| Предыдущая версия справа и слеваПредыдущая версияСледующая версия | Предыдущая версия | ||
| lab2:вывод_соотношений_для_диода [2019/03/22 10:42] – root_s | lab2:вывод_соотношений_для_диода [2026/09/04 06:05] (текущий) – внешнее изменение 127.0.0.1 | ||
|---|---|---|---|
| Строка 39: | Строка 39: | ||
| в режиме задерживающего потенциала (область I на рис. 7, б) | в режиме задерживающего потенциала (область I на рис. 7, б) | ||
| $$ | $$ | ||
| - | I=I_{0}F(\frac{-eU_{a}}{kT})\equiv2C\int_{\eta}^{\infty}y^{2}e^{-y^{2}}dy=C\left[\eta e^{-\eta^{2}}+\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy\right], | + | \text{ (*) } \ \ I=I_{0}F(\frac{-eU_{a}}{kT})\equiv2C\int_{\eta}^{\infty}y^{2}e^{-y^{2}}dy=C\left[\eta e^{-\eta^{2}}+\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy\right], |
| $$ | $$ | ||
| где $\eta=\sqrt{\frac{-eU_{a}}{kT}}$. Константу $C$ можно найти | где $\eta=\sqrt{\frac{-eU_{a}}{kT}}$. Константу $C$ можно найти | ||
| Строка 45: | Строка 45: | ||
| должен получиться полный ток эмиссии $I_{0}$: | должен получиться полный ток эмиссии $I_{0}$: | ||
| $$ | $$ | ||
| - | C=\frac{2I_{0}}{\sqrt{2\pi}}.\label{eq: | + | C=\frac{2I_{0}}{\sqrt{\pi}}. |
| $$ | $$ | ||
| - | + | Интеграл $\text{erfc} (\eta) = 1-\text{erf} (\eta)=\frac 2{\sqrt{\pi}}\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy$ --- [[https:// | |
| - | График зависимости $\frac{I}{I_{0}}=F(\frac{-eU_{a}}{kT})$ приведен | + | /*График зависимости $\frac{I}{I_{0}}=F(\frac{-eU_{a}}{kT})$ приведен в прил. 2. */ |
| - | в прил. 2. | + | |
| Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный потенциала пространства $\varphi_{m}$, | Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный потенциала пространства $\varphi_{m}$, | ||
| - | подставить в формулу (8) вместо $U_{a}$. | + | подставить в формулу (*) вместо $U_{a}$. |
| + | Назад к теме [[обработка_вах|Общие практические рекомендации по обработке ВАХ при выполнении работ]] или далее к [[lab2: | ||