Различия

Показаны различия между двумя версиями страницы.

Ссылка на это сравнение

Предыдущая версия справа и слеваПредыдущая версия
Следующая версия		Предыдущая версия
lab2:вывод_соотношений_для_диода [2019/03/22 10:47] – root_slab2:вывод_соотношений_для_диода [2026/09/04 06:05] (текущий) – внешнее изменение 127.0.0.1
Строка 45: Строка 45:
 должен получиться полный ток эмиссии $I_{0}$:  должен получиться полный ток эмиссии $I_{0}$: 
 $$ $$
-C=\frac{2I_{0}}{\sqrt{2\pi}}.\label{eq:9}+C=\frac{2I_{0}}{\sqrt{\pi}}.
 $$ $$
  
-График зависимости $\frac{I}{I_{0}}=F(\frac{-eU_{a}}{kT})$ приведен в прил. 2. +Интеграл $\text{erfc} (\eta) = 1-\text{erf} (\eta)=\frac 2{\sqrt{\pi}}\int_{\eta}^{\infty}e^{-y^{2}}dy$ --- [[https://ru.wikipedia.org/wiki/Функция_ошибок|дополнительная функция ошибок,]] его значения можно вычислить как в математических пакетах Maple, Matlab, Mathematica и Maxima, так и в программе обработке данных [[books:scidavis|SciDAVis]]. 
 +/*График зависимости $\frac{I}{I_{0}}=F(\frac{-eU_{a}}{kT})$ приведен в прил. 2. */
  
 Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный потенциала пространства $\varphi_{m}$, который в этом случае надо Отметим сразу, что эта формула может применяться и в области I' рис. 7, б, где в качестве запирающего потенциала выступает минимальный потенциала пространства $\varphi_{m}$, который в этом случае надо
 подставить в формулу (*) вместо $U_{a}$. подставить в формулу (*) вместо $U_{a}$.
  
-Назад к теме [[обработка_вах|Общие практические рекомендации по обработке ВАХ при выполнении работ]] или далее [[lab2:lab2|Описаниям]] лабораторных работ.+Назад к теме [[обработка_вах|Общие практические рекомендации по обработке ВАХ при выполнении работ]] или далее к [[lab2:lab2|описаниям лабораторных работ.]]